簡要描述：工業(yè)去離子水處理設(shè)備整機(jī)采用模塊化的生產(chǎn)，結(jié)構(gòu)合理緊湊，占地面積??；具有完善的控制系統(tǒng)，水滿停機(jī)，缺水保護(hù)，自動清洗，再生增壓等功能，工業(yè)去離子水處理設(shè)備是用于滿足各個行業(yè)使用去離子水需求，多用于電鍍，新材料，鍍膜，精細(xì)化工，油墨，超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電路板的生產(chǎn)和清洗、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)等行業(yè)，整個系統(tǒng)是由反滲透系統(tǒng)。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2020-12-09訪 問 量：2537| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,農(nóng)業(yè) |
1、去離子水設(shè)備簡介：
工業(yè)去離子水處理設(shè)備是用于滿足各個行業(yè)使用去離子水需求，多用于電鍍，新材料，鍍膜，精細(xì)化工，油墨，超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電路板的生產(chǎn)和清洗、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)等行業(yè)，整個系統(tǒng)是由反滲透系統(tǒng)、EDI或者混床系統(tǒng)、提純系統(tǒng)組合而成。
2、去離子水設(shè)備產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)：
電導(dǎo)率：0.056-10us/cm
產(chǎn)水量：0.25-50噸/小時
3、去離子水設(shè)備特點
工業(yè)去離子水處理設(shè)備整機(jī)采用模塊化的生產(chǎn)，結(jié)構(gòu)合理緊湊，占地面積小；具有完善的控制系統(tǒng)，水滿停機(jī)，缺水保護(hù)，自動清洗，再生增壓等功能。
另外可選配水質(zhì)超標(biāo)排放或者超標(biāo)報警等功能。
4、去離子水工藝選擇
工藝一：預(yù)處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→EDI→用水點
工藝二：預(yù)處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→混床→用水點
工藝三：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→混床→用水點
工藝四：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→EDI→用水點
工藝五：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→EDI→提純系統(tǒng)→用水點
工藝六：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→混床→提純系統(tǒng)→用水點
工藝七：預(yù)處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→用水點
上一產(chǎn)品：軟化水設(shè)備
下一產(chǎn)品：全自動軟水設(shè)備
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